• SHENZHEN JINGDACHENG ELECTRONICS CO.,LTD
    Paul Chigo
    Ho ordinato 2 insiemi 11KV NER da JDC per i nostri progetti 2 anni fa, la qualità ed il termine di consegna era molto buono, NER funziona perfettamente l'unità ora, noi tratterà JDC come nostri partner importanti!!
  • SHENZHEN JINGDACHENG ELECTRONICS CO.,LTD
    Jeffery Bell
    Ho trovato JDC perché la resistenza corrente di senso di Vishay/TT era scarsità, JDC ho fornito le parti alternative in poco tempo e le loro parti possono completamente sostituire Vishay/TT per separarsi il termine d'esecuzione molto migliore.
Persona di contatto : Chris
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Stabilità globale superiore mini MELF di precisione 0207 della resistenza 0102 del film sottile

Luogo di origine La Cina
Marca JDC
Certificazione ROHS
Numero di modello MMU
Quantità di ordine minimo 10,000pcs
Prezzo US$0.02-US$0.15
Imballaggi particolari Massa in bobina
Tempi di consegna 2 settimane
Termini di pagamento Western Union, T/T
Capacità di alimentazione 1,000,000pcs al mese

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Dettagli
Potere stimato 0.2W, 0.4W Resistenza 0.1Ω-1MΩ
Tolleranza ±0.5%, ±1%
Evidenziare

Resistenza di precisione MELF

,

Resistenza 0102 di MELF

,

mini resistenza del melf 0207

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Descrizione di prodotto

Resistenze del film sottile MELF di precisione, 0102, 0207, 0,5%, 1%

 

 

 

Caratteristiche:

 

  1. La forza misura i cappucci d'acciaio, latta ha placcato sulla barriera del nichel.
  2. Stabilità globale superiore, la maggior parte della tecnologia avanzata del film sottile.
  3. TCR giù a ± 5ppm/°C, ampia gamma di resistenza: 0.1Ω a 1MΩ.
  4. BACCANO: 0102, 0204, 0207, 0411. Termine puro dello Sn sullo strato di sbarramento del Ni.
  5. Compatibile con cavo (Pb) senza e cavo - contenere i processi di saldatura.
  6. Alto rapporto della prestazione da valutare. Tolleranza di precisione giù a ±0.5%.

 

Applicazioni:

 

 

  1. Attrezzatura di calibratura e di misurazione.
  2. Le Telecomunicazioni, sistemi di controllo produzione industriali.
  3. Elettronica medica, spazio e elettronica per aeronautica, prova e misura.